真空蒸發鍍膜設備

品牌：OPTORUN

型號：OTFC1550

功能：OTFC為光馳最暢銷的真空蒸發光學鍍膜設備，主要被用來生

產中等難度的AR涂層，紅外截止濾光片等產品，得益于其出色的腔

體尺寸，可以有效地降低產品生產的成本。

電子束蒸發鍍膜設備

品牌：Leybold 

型號：Syrus Pro 1950

功能： Syrus Pro 1910 主要用于多波段光學增透膜、高反膜、截止濾光片、 窄帶、超窄帶、極窄帶濾光片等光學薄膜蒸鍍，配 備三把電子槍,電阻加熱蒸發源和等離子體輔助源， 一次可蒸鍍多片不同尺寸的樣品,同時，我司的Syrus pro 鍍膜傘尺寸 為 1910mm，可以制備大尺寸的光學鍍膜產品，同時單爐的產量也遠高于市場常見設備，另外在單層鍍膜方面，可以將氧化物的厚度均勻性控制在1%。

雙離子束濺射鍍膜機

品牌：VECCO

型號：SPECTOR HT

功能：SPECTOR HT 鍍制的薄膜具有低散射損耗，高薄膜純度。可控薄膜厚度低于0.1 納米。使用SPECTOR可以生產AR涂層、復雜非四分之一波長涂層和超低吸收損耗和散射的激光器反射鏡等光學元件。所制薄膜優點：堆積密度良好、針孔密度較低、薄 膜純度較高。

我們主要利用SPRCTOR HT 來生產超窄帶濾光片，和應用于航天，軍工，醫療，儀器等對濾光片精度具有極高要求的市場。 

離子束濺射鍍膜設備

品牌：Leybold 

型號：IBS

功能： IBS 系列提供具有超低光學鍍膜損耗的離子束濺射技術，非常適合用于激光光學裝置、陀螺儀、計量學、顯微鏡學、電信和其他要求苛刻應用的高精度鍍膜。

半導體磁控濺射鍍膜設備

品牌：北方華創-NAURA

型號：Polaris B630 

功能： Polaris系列PVD系統主要由大氣平臺，真空傳輸平臺，去氣腔室（Degas），預清潔腔室和工藝腔室組成，設備采用Cluster Tool結構，可配置多個工藝腔室、預清洗腔室和去氣腔室，適合封裝領域薄膜制備大規模生產。Polaris系列PVD為全自動大產能設備，具有反應腔自動開閉蓋、晶圓自動傳輸、工藝去氣、晶圓表面預清潔、薄膜沉積完全自動化等特點。

原子層沉積鍍膜設備

品牌：Beneq

型號：TFS-500

功能：TFS 500可處理多種類型的基板；芯片、平面物體、顆粒和多孔體材料，以及具有高縱橫比特征的復雜3D物體。它還可以配備手動操作的裝載鎖，以提高芯片處理能力。不同類型的反應室可以很容易地安裝在真空室內，從而可以針對每個客戶應用優化每個反應室。

光學磁控濺射鍍膜設備

品牌：Leybold

型號：Helios 800

功能：HELIOS 800 濺射鍍膜機專為滿足薄膜制備的高要求而設計。適用于線性激光、深度截止濾光片和陷波濾光片、激光器和啁啾鏡、偏振片、分束器、生物傳感器和 ADAS 傳感器或消費電子產品。主要應用于生物醫療，儀器設備，3D傳感等市場。